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甲酸真空共晶炉
甲酸真空炉是一种在真空环境下利用甲酸处理材料的设备，可减少氧化和杂质影响，广泛应用于半导体、电子封装和材料研究等领域。 工作原理 设备通过降低炉内气压减少杂质气体，抑制材料氧化。甲酸在加热时分解产生还原性气体，去除材料表面氧化层，提升焊接性能和表面质量。 产品分类 固定床式：结构简单，操作方便，适用于小批量生产，成本低，但效率较低。 流化床式：气固接触充分，反应效率高，适合大规模生产，但设备复杂，成本高。 |
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